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拓真空屬于高端智能制造、半導體薄膜沉積的細分行業(yè)，目標是半導體行業(yè)真空鍍膜設備這個細分賽道的國內(nèi)頭部企業(yè)。此賽道長期以來均被美國應用材料，日本愛發(fā)科，臺灣富臨等外資廠商壟斷。目前源拓真空已成功打破國外壟斷，技術團隊用極低的研發(fā)成本及極短的開發(fā)周期將設備開發(fā)成功，并成功在真空蒸發(fā)鍍膜設備上取得國內(nèi)指標性客戶驗證合格并開始產(chǎn)生批量訂單，成功開發(fā)產(chǎn)業(yè)界應用最大的尺寸設備，助力半導體客戶進一步提高產(chǎn)能，降低成本，深受好評；國內(nèi)眾多客戶都開始主動尋求深度合作，助力國內(nèi)受制裁領域企業(yè)順利孵化并成功穩(wěn)定量產(chǎn)，良率保障率極高；高端磁控濺射設備也已開發(fā)完成，高端磁控濺射市場長期被美國應用材料及日本愛發(fā)科等外資設備所壟斷，國內(nèi)很多大型企業(yè)都在不斷加大投入研發(fā)過程中。該磁控濺射設備百億級美金市場，國內(nèi)尚無企業(yè)具備生產(chǎn)制造能力，空間潛力巨大。 企業(yè)目前已于2025年10月20日順利落戶蘇州市相城區(qū)高鐵新城板塊，辦公總部位于中荷創(chuàng)新港，工廠位于AI+交通產(chǎn)業(yè)園。 目前企業(yè)已獲得國開創(chuàng)投，中華開發(fā)（臺積電股東背景），蘇創(chuàng)投產(chǎn)研院投資。